|
|
|
|
|
|
|
Постановление Государственного военно-промышленного комитета Республики Беларусь, Государственного таможенного комитета Республики Беларусь от 01.04.2009 N 5/23 "О внесении изменений и дополнений в постановление Государственного военно-промышленного комитета Республики Беларусь и Государственного таможенного комитета Республики Беларусь от 28 декабря 2007 г. N 15/137"(текст документа по состоянию на январь 2010 года. Архив) обновление Стр. 65 ¦ ¦них компонентов; ¦ ¦ ¦ ¦д) станков с числовым программным ¦ ¦ ¦ ¦управлением или станков с ручным ¦ ¦ ¦ ¦управлением и специально предназначенных ¦ ¦ ¦ ¦для них компонентов, оборудования для ¦ ¦ ¦ ¦контроля и приспособлений, специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанных для шевингования, финишной ¦ ¦ ¦ ¦обработки, шлифования или хонингования ¦ ¦ ¦ ¦закаленных (Rc = 40 или более) ¦ ¦ ¦ ¦прямозубых цилиндрических, косозубых и ¦ ¦ ¦ ¦шевронных шестерен диаметром делительной ¦ ¦ ¦ ¦окружности более 1250 мм и шириной ¦ ¦ ¦ ¦зубчатого венца, равной 15% от диаметра ¦ ¦ ¦ ¦делительной окружности или более, с ¦ ¦ ¦ ¦качеством после финишной обработки по ¦ ¦ ¦ ¦классу 3 в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 1328 ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.5 ¦Технология ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.5.1 ¦Технологии в соответствии с общим ¦ ¦ ¦ ¦технологическим примечанием для ¦ ¦ ¦ ¦разработки программного обеспечения, ¦ ¦ ¦ ¦контролируемого по пункту 2.4, или ¦ ¦ ¦ ¦разработки либо производства следующего ¦ ¦ ¦ ¦оборудования: ¦ ¦ ¦ ¦а) токарных станков, имеющих все ¦ ¦ ¦ ¦следующие характеристики: точность ¦ ¦ ¦ ¦позиционирования вдоль любой линейной ¦ ¦ ¦ ¦оси со всеми доступными компенсациями, ¦ ¦ ¦ ¦равную 3,6 мкм или менее (лучше) в ¦ ¦ ¦ ¦соответствии с международным стандартом ¦ ¦ ¦ ¦ISO 230/2 (1997) или его национальным ¦ ¦ ¦ ¦эквивалентом; и две или более оси, ¦ ¦ ¦ ¦которые могут быть совместно ¦ ¦ ¦ ¦скоординированы для контурного ¦ ¦ ¦ ¦управления; ¦ ¦ ¦ ¦б) фрезерных станков, имеющих любую из ¦ ¦ ¦ ¦следующих характеристик: ¦ ¦ ¦ ¦1) имеющих все следующие характеристики: ¦ ¦ ¦ ¦точность позиционирования вдоль любой ¦ ¦ ¦ ¦линейной оси со всеми доступными ¦ ¦ ¦ ¦компенсациями, равную 3,6 мкм или менее ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 230/2 (1997) или его ¦ ¦ ¦ ¦национальным эквивалентом; и три ¦ ¦ ¦ ¦линейные оси плюс одну ось вращения, ¦ ¦ ¦ ¦которые могут быть совместно ¦ ¦ ¦ ¦скоординированы для контурного ¦ ¦ ¦ ¦управления; ¦ ¦ ¦ ¦2) пять или более осей, которые могут ¦ ¦ ¦ ¦быть совместно скоординированы вдоль ¦ ¦ ¦ ¦любой линейной оси для контурного ¦ ¦ ¦ ¦управления и имеющие точность ¦ ¦ ¦ ¦позиционирования со всеми доступными ¦ ¦ ¦ ¦компенсациями, равную 3,6 мкм или менее ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 230/2 (1997) или его ¦ ¦ ¦ ¦национальным эквивалентом; или ¦ ¦ ¦ ¦3) для координатно-расточных станков ¦ ¦ ¦ ¦точность позиционирования вдоль любой ¦ ¦ ¦ ¦линейной оси со всеми доступными ¦ ¦ ¦ ¦компенсациями, равную 3 мкм или менее ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 230/2 (1997) или его ¦ ¦ ¦ ¦национальным эквивалентом; ¦ ¦ ¦ ¦в) станков для электроискровой обработки ¦ ¦ ¦ ¦(СЭО) беспроволочного типа, имеющих две ¦ ¦ ¦ ¦или более оси вращения, которые могут ¦ ¦ ¦ ¦быть совместно скоординированы для ¦ ¦ ¦ ¦контурного управления; ¦ ¦ ¦ ¦г) сверлильных станков для сверления ¦ ¦ ¦ ¦глубоких отверстий или токарных станков, ¦ ¦ ¦ ¦модифицированных для сверления глубоких ¦ ¦ ¦ ¦отверстий, обеспечивающих максимальную ¦ ¦ ¦ ¦глубину сверления отверстий 5000 мм или ¦ ¦ ¦ ¦более, и специально разработанных для ¦ ¦ ¦ ¦них компонентов; ¦ ¦ ¦ ¦д)станков с числовым программным ¦ ¦ ¦ ¦управлением или станков с ручным ¦ ¦ ¦ ¦управлением и специально предназначенных ¦ ¦ ¦ ¦для них компонентов, оборудования для ¦ ¦ ¦ ¦контроля и приспособлений, специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанных для шевингования, финишной ¦ ¦ ¦ ¦обработки, шлифования или хонингования ¦ ¦ ¦ ¦закаленных (Rс = 40 или более) ¦ ¦ ¦ ¦прямозубых цилиндрических, косозубых и ¦ ¦ ¦ ¦шевронных шестерен диаметром делительной ¦ ¦ ¦ ¦окружности более 1250 мм и шириной ¦ ¦ ¦ ¦зубчатого венца, равной 15% от диаметра ¦ ¦ ¦ ¦делительной окружности или более, с ¦ ¦ ¦ ¦качеством после финишной обработки по ¦ ¦ ¦ ¦классу 3 в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 1328 ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ ¦ Категория 3. ЭЛЕКТРОНИКА ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 3.1 ¦Системы, оборудование и компоненты ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 3.1.1 ¦Атомные эталоны частоты, не являющиеся ¦8543 20 000 0 ¦ ¦ ¦рубидиевыми и имеющие долговременную ¦ ¦ ¦ ¦ -11 ¦ ¦ ¦ ¦стабильность меньше (лучше) 1 x 10 в ¦ ¦ ¦ ¦месяц ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 3.2 ¦Испытательное, контрольное и ¦ ¦ ¦ ¦производственное оборудование ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 3.2.1 ¦Установки (реакторы) для химического ¦8486 20 900 9 ¦ ¦ ¦осаждения из паровой фазы ¦ ¦ ¦ ¦металлоорганических соединений, ¦ ¦ ¦ ¦специально разработанные для выращивания ¦ ¦ ¦ ¦кристаллов полупроводниковых соединений ¦ ¦ ¦ ¦с использованием материалов, ¦ ¦ ¦ ¦контролируемых по пункту 3.3.3 или 3.3.4 ¦ ¦ ¦ ¦раздела 1, в качестве исходных ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 3.3 ¦Материалы - нет ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 3.4 ¦Программное обеспечение ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 3.4.1 ¦Программное обеспечение, специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанное для разработки или ¦ ¦ ¦ ¦производства оборудования, ¦ ¦ ¦ ¦контролируемого по пункту 3.1 или 3.2 ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 3.5 ¦Технология ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 3.5.1 ¦Технологии в соответствии с общим ¦ ¦ ¦ ¦технологическим примечанием для ¦ ¦ ¦ ¦разработки или производства ¦ ¦ ¦ ¦оборудования, контролируемого по пункту ¦ ¦ ¦ ¦3.1 или 3.2 ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ ¦ Категория 4. ВЫЧИСЛИТЕЛЬНАЯ ТЕХНИКА ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 4.1 ¦Системы, оборудование и компоненты ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 4.1.1 ¦Радиационно стойкие ЭВМ и сопутствующее ¦8471 ¦ ¦ ¦оборудование, а также электронные сборки ¦ ¦ ¦ ¦и специально разработанные для них ¦ ¦ ¦ ¦компоненты, превышающие любое из ¦ ¦ ¦ ¦следующих требований: ¦ ¦ ¦ ¦ 3 5 ¦ ¦ ¦ ¦а) общая доза 5 x 10 Гр (Si) [5 x 10 ¦ ¦ ¦ ¦рад]; ¦ ¦ ¦ ¦ 6 ¦ ¦ ¦ ¦б) мощность дозы 5 x 10 Гр (Si)/c ¦ ¦ ¦ ¦ 8 ¦ ¦ ¦ ¦[5 x 10 рад/с]; или ¦ ¦ ¦ ¦ -7 ¦ ¦ ¦ ¦в) сбой от однократного события 10 ¦ ¦ ¦ ¦ошибок/бит/день ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 4.2 ¦Испытательное, контрольное и ¦ ¦ ¦ ¦производственное оборудование - нет ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 4.3 ¦Материалы - нет ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 4.4 ¦Программное обеспечение ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 4.4.1 ¦Программное обеспечение, специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанное для разработки или ¦ ¦ ¦ ¦производства оборудования, ¦ ¦ ¦ ¦контролируемого по пункту 4.1, или для ¦ ¦ ¦ ¦разработки или производства цифровых ¦ ¦ ¦ ¦ЭВМ, имеющих приведенную пиковую ¦ ¦ ¦ ¦производительность (ППП), превышающую ¦ ¦ ¦ ¦0,1 взвешенных ТераФЛОПС (ВТ) ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 4.5 ¦Технология ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 4.5.1 ¦Технологии в соответствии с общим ¦ ¦ ¦ ¦технологическим примечанием для ¦ ¦ ¦ ¦разработки или производства следующего ¦ ¦ ¦ ¦оборудования или программного ¦ ¦ ¦ ¦обеспечения: ¦ ¦ ¦ ¦а)оборудования, контролируемого по ¦ ¦ ¦ ¦пункту 4.1; ¦ ¦ ¦ ¦б)цифровых ЭВМ, имеющих приведенную ¦ ¦ ¦ ¦пиковую производительность (ППП), ¦ ¦ ¦ ¦превышающую 0,1 взвешенных ТераФЛОПС ¦ ¦ ¦ ¦(ВТ); или ¦ ¦ ¦ ¦в)программного обеспечения, ¦ ¦ ¦ ¦контролируемого по пункту 4.4 ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ ¦Особое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦В отношении определения ППП для цифровых ¦ ¦ ¦ ¦ЭВМ, указанных в пунктах 4.4.1 и 4.5.1, ¦ ¦ ¦ ¦пользоваться техническим примечанием к ¦ ¦ ¦ ¦категории 4 раздела 1 ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ ¦ Категория 5 ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ ¦Часть 1. Телекоммуникации ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 5.1.1 ¦Системы, оборудование и компоненты ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 5.1.1.1 ¦Телекоммуникационные системы и ¦ ¦ ¦ ¦аппаратура, а также специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанные для них компоненты и ¦ ¦ ¦ ¦принадлежности, имеющие любые из ¦ ¦ ¦ ¦следующих характеристик, свойств или ¦ ¦ ¦ ¦качеств: ¦ ¦ +--------------+------------------------------------------+---------------+ ¦ 5.1.1.1.1 ¦Являются радиоаппаратурой, использующей ¦8517 12 000 0; ¦ ¦ ¦методы расширения спектра, включая метод ¦8517 61 000 9; ¦ ¦ ¦скачкообразной перестройки частоты, не ¦8525 60 000 0 ¦ ¦ ¦контролируемой по пункту 5.1.1.2.4 ¦ ¦ ¦ ¦раздела 1, имеющей любую из следующих ¦ ¦ ¦ ¦характеристик: ¦ ¦ ¦ ¦а) коды расширения, программируемые ¦ ¦ ¦ ¦пользователем; или ¦ ¦ ¦ ¦б) общую ширину полосы частот выше 50 ¦ ¦  |  |
|
|
|