|
|
|
|
|
|
|
Постановление Государственного военно-промышленного комитета Республики Беларусь, Государственного таможенного комитета Республики Беларусь от 01.04.2009 N 5/23 "О внесении изменений и дополнений в постановление Государственного военно-промышленного комитета Республики Беларусь и Государственного таможенного комитета Республики Беларусь от 28 декабря 2007 г. N 15/137"(текст документа по состоянию на январь 2010 года. Архив) обновление Стр. 23 ¦ ¦стандартом ISO 230/2 (1997) или его ¦ ¦ ¦ ¦национальным эквивалентом; или ¦ ¦ ¦ ¦г) станки с летучей фрезой, имеющие все ¦ ¦ ¦ ¦следующие характеристики: биение шпинделя и ¦ ¦ ¦ ¦эксцентриситет менее (лучше) 0,0004 мм ¦ ¦ ¦ ¦полного показания индикатора (ППИ); и ¦ ¦ ¦ ¦повороты суппорта относительно трех ¦ ¦ ¦ ¦ортогональных осей меньше (лучше) двух ¦ ¦ ¦ ¦дуговых секунд ППИ на 300 мм перемещения ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.1.3 ¦Шлифовальные станки, имеющие любую из ¦8460 11 000; ¦ ¦ ¦следующих характеристик: ¦8460 19 000 0; ¦ ¦ ¦а) имеющие все следующие характеристики: ¦8460 21; ¦ ¦ ¦точность позиционирования вдоль любой ¦8460 29; ¦ ¦ ¦линейной оси со всеми доступными ¦8464 20 950 0; ¦ ¦ ¦компенсациями, равную 3 мкм или менее ¦8465 93 000 0 ¦ ¦ ¦(лучше) в соответствии с международным ¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 230/2 (1997) или его ¦ ¦ ¦ ¦национальным эквивалентом; и три или более ¦ ¦ ¦ ¦оси, которые могут быть совместно ¦ ¦ ¦ ¦скоординированы для контурного управления; ¦ ¦ ¦ ¦или ¦ ¦ ¦ ¦б) пять или более осей, которые могут быть ¦ ¦ ¦ ¦совместно скоординированы для контурного ¦ ¦ ¦ ¦управления. ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Примечание. ¦ ¦ ¦ ¦По пункту 2.2.1.3 не контролируются ¦ ¦ ¦ ¦следующие шлифовальные станки: ¦ ¦ ¦ ¦а) круглошлифовальные, внутришлифовальные и ¦ ¦ ¦ ¦универсальные шлифовальные станки, ¦ ¦ ¦ ¦обладающие всеми следующими ¦ ¦ ¦ ¦характеристиками: предназначенные лишь для ¦ ¦ ¦ ¦круглого шлифования; и с максимально ¦ ¦ ¦ ¦возможной длиной или наружным диаметром ¦ ¦ ¦ ¦обрабатываемой детали 150 мм; ¦ ¦ ¦ ¦б) станки, специально разработанные как ¦ ¦ ¦ ¦координатно-шлифовальные, не имеющие Z-оси ¦ ¦ ¦ ¦или W-оси, с точностью позиционирования со ¦ ¦ ¦ ¦всеми доступными компенсациями меньше ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) 3 мкм в соответствии с международным¦ ¦ ¦ ¦стандартом ISO 230/2 (1997) или его ¦ ¦ ¦ ¦национальным эквивалентом; ¦ ¦ ¦ ¦в) плоскошлифовальные станки ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.1.4 ¦Станки для электроискровой обработки (СЭО) ¦8456 30 ¦ ¦ ¦беспроволочного типа, имеющие две или более ¦ ¦ ¦ ¦оси вращения, которые могут быть совместно ¦ ¦ ¦ ¦скоординированы для контурного управления ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.1.5 ¦Станки для обработки металлов, керамики или ¦8424 30 900 0; ¦ ¦ ¦композиционных материалов, имеющие все ¦8456 10 00; ¦ ¦ ¦следующие характеристики: ¦8456 90 000 0 ¦ ¦ ¦а) обработка материалов осуществляется любым¦ ¦ ¦ ¦из следующих способов: струями воды или ¦ ¦ ¦ ¦других жидкостей, в том числе с абразивными ¦ ¦ ¦ ¦присадками; электронным лучом; или лазерным ¦ ¦ ¦ ¦лучом; и ¦ ¦ ¦ ¦б) имеющие две или более оси вращения, ¦ ¦ ¦ ¦которые могут быть совместно скоординированы¦ ¦ ¦ ¦для контурного управления; и имеют точность ¦ ¦ ¦ ¦позиционирования менее (лучше) 0,003 град. ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.1.6 ¦Сверлильные станки для сверления глубоких ¦8458; ¦ ¦ ¦отверстий или токарные станки, ¦8459 21 000 0; ¦ ¦ ¦модифицированные для сверления глубоких ¦8459 29 000 0 ¦ ¦ ¦отверстий, обеспечивающие максимальную ¦ ¦ ¦ ¦глубину сверления отверстий более 5000 мм и ¦ ¦ ¦ ¦специально разработанные для них компоненты ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.2 ¦Станки с числовым программным управлением ¦8464 20 110 0; ¦ ¦ ¦для чистовой обработки (финишные станки) ¦8464 20 190 0; ¦ ¦ ¦асферических оптических поверхностей с ¦8464 20 950 0; ¦ ¦ ¦выборочным снятием материала, имеющие все ¦8465 93 000 0 ¦ ¦ ¦следующие характеристики: ¦ ¦ ¦ ¦а) осуществляющие доводку контура до менее ¦ ¦ ¦ ¦(лучше) 1,0 мкм; ¦ ¦ ¦ ¦б) осуществляющие чистовую обработку до ¦ ¦ ¦ ¦среднеквадратичного значения шероховатости ¦ ¦ ¦ ¦менее (лучше) 100 нм; ¦ ¦ ¦ ¦в) имеющие четыре или более оси, которые ¦ ¦ ¦ ¦могут быть совместно скоординированы для ¦ ¦ ¦ ¦контурного управления; и ¦ ¦ ¦ ¦г) использующие любой из следующих ¦ ¦ ¦ ¦процессов: магнитореологической чистовой ¦ ¦ ¦ ¦обработки (МРЧО); электрореологической ¦ ¦ ¦ ¦чистовой обработки (ЭРЧО); чистовой ¦ ¦ ¦ ¦обработки пучком частиц высокой энергии; ¦ ¦ ¦ ¦чистовой обработки с помощью рабочего органа¦ ¦ ¦ ¦в виде надувной мембраны; или жидкоструйной ¦ ¦ ¦ ¦чистовой обработки. ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Техническое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Для целей пункта 2.2.2: ¦ ¦ ¦ ¦а) под МРЧО понимается процесс съема ¦ ¦ ¦ ¦материала, использующий абразивную магнитную¦ ¦ ¦ ¦жидкость, вязкость которой регулируется ¦ ¦ ¦ ¦магнитным полем; ¦ ¦ ¦ ¦б) под ЭРЧО понимается процесс съема ¦ ¦ ¦ ¦материала, использующий абразивную жидкость,¦ ¦ ¦ ¦вязкость которой регулируется электрическим ¦ ¦ ¦ ¦полем; ¦ ¦ ¦ ¦в) под чистовой обработкой пучками ¦ ¦ ¦ ¦высокоэнергетических частиц понимается ¦ ¦ ¦ ¦процесс, использующий плазму атомов ¦ ¦ ¦ ¦химически активных элементов или пучки ионов¦ ¦ ¦ ¦для избирательного съема материала; ¦ ¦ ¦ ¦г) под чистовой обработкой с помощью ¦ ¦ ¦ ¦рабочего органа в виде надувной мембраны ¦ ¦ ¦ ¦понимается процесс, в котором используется ¦ ¦ ¦ ¦мембрана под давлением, деформирующая ¦ ¦ ¦ ¦изделие при контакте с ней на небольшом ¦ ¦ ¦ ¦участке; ¦ ¦ ¦ ¦д) под жидкоструйной чистовой обработкой ¦ ¦ ¦ ¦понимается процесс, использующий поток ¦ ¦ ¦ ¦жидкости для съема материала ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.3 ¦Станки с числовым программным управлением ¦8461 40 710 0; ¦ ¦ ¦или станки с ручным управлением и специально¦8461 40 790 0 ¦ ¦ ¦предназначенные для них компоненты, ¦ ¦ ¦ ¦оборудование для контроля и приспособления, ¦ ¦ ¦ ¦специально разработанные для шевингования, ¦ ¦ ¦ ¦финишной обработки, шлифования или ¦ ¦ ¦ ¦хонингования закаленных (R = 40 или более) ¦ ¦ ¦ ¦ c ¦ ¦ ¦ ¦прямозубых цилиндрических, косозубых и ¦ ¦ ¦ ¦шевронных шестерен диаметром делительной ¦ ¦ ¦ ¦окружности более 1250 мм и шириной зубчатого¦ ¦ ¦ ¦венца, равной 15% от диаметра делительной ¦ ¦ ¦ ¦окружности или более, с качеством после ¦ ¦ ¦ ¦финишной обработки по классу 3 в ¦ ¦ ¦ ¦соответствии с международным стандартом ISO ¦ ¦ ¦ ¦1328 ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.4 ¦Горячие изостатические прессы, имеющие все ¦8462 99 ¦ ¦ ¦нижеперечисленное, и специально ¦ ¦ ¦ ¦разработанные для них компоненты и ¦ ¦ ¦ ¦приспособления: ¦ ¦ ¦ ¦а) камеры с регулируемыми температурами ¦ ¦ ¦ ¦внутри рабочей полости и внутренним ¦ ¦ ¦ ¦диаметром полости камеры 406 мм и более; и ¦ ¦ ¦ ¦б) любую из следующих характеристик: ¦ ¦ ¦ ¦максимальное рабочее давление выше 207 МПа; ¦ ¦ ¦ ¦регулируемые температуры выше 1773 K (1500 ¦ ¦ ¦ ¦град. C); или оборудование для насыщения ¦ ¦ ¦ ¦углеводородом и удаления газообразных ¦ ¦ ¦ ¦продуктов разложения. ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦ ¦Техническое примечание. ¦ ¦ ¦ ¦Внутренний размер камеры относится к ¦ ¦ ¦ ¦полости, в которой достигаются рабочие ¦ ¦ ¦ ¦давление и температура, при этом исключаются¦ ¦ ¦ ¦установочные приспособления. Указанный выше ¦ ¦ ¦ ¦размер будет наименьшим из двух размеров - ¦ ¦ ¦ ¦внутреннего диаметра камеры высокого ¦ ¦ ¦ ¦давления или внутреннего диаметра ¦ ¦ ¦ ¦изолированной высокотемпературной камеры - в¦ ¦ ¦ ¦зависимости от того, какая из этих камер ¦ ¦ ¦ ¦находится в другой ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.5 ¦Оборудование, специально разработанное для ¦ ¦ ¦ ¦осаждения, обработки и активного управления ¦ ¦ ¦ ¦процессом нанесения неорганических покрытий,¦ ¦ ¦ ¦слоев и модификации поверхности (за ¦ ¦ ¦ ¦исключением формирования подложек для ¦ ¦ ¦ ¦электронных схем) с использованием ¦ ¦ ¦ ¦процессов, указанных в таблице к пункту ¦ ¦ ¦ ¦2.5.3.6 и отмеченных в примечаниях к ней, а ¦ ¦ ¦ ¦также специально разработанные для него ¦ ¦ ¦ ¦автоматизированные компоненты установки, ¦ ¦ ¦ ¦позиционирования, манипулирования и ¦ ¦ ¦ ¦регулирования: ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.5.1 ¦Производственное оборудование для ¦8419 89 989 0 ¦ ¦ ¦химического осаждения из паровой фазы (CVD),¦ ¦ ¦ ¦имеющее все нижеследующее: ¦ ¦ ¦ ¦а) процесс, модифицированный для реализации ¦ ¦ ¦ ¦одного из следующих методов: CVD с ¦ ¦ ¦ ¦пульсирующим режимом; термического осаждения¦ ¦ ¦ ¦с управляемым образованием центров ¦ ¦ ¦ ¦кристаллизации (CNTD); или CVD с применением¦ ¦ ¦ ¦плазменного разряда, модифицирующего ¦ ¦ ¦ ¦процесс; и ¦ ¦ ¦ ¦б) включающее любое из следующего: ¦ ¦ ¦ ¦высоковакуумные (вакуум, равный 0,01 Па или ¦ ¦ ¦ ¦ниже (лучше)) вращающиеся уплотнения; или ¦ ¦ ¦ ¦средства регулирования толщины покрытия в ¦ ¦ ¦ ¦процессе осаждения ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.5.2 ¦Производственное оборудование ионной ¦8543 10 000 0 ¦ ¦ ¦имплантации с током пучка 5 мА или более ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.5.3 ¦Технологическое оборудование для физического¦8543 70 900 9 ¦ ¦ ¦осаждения из паровой фазы, получаемой ¦ ¦ ¦ ¦нагревом электронным пучком (EB-PVD), ¦ ¦ ¦ ¦включающее силовые системы с расчетной ¦ ¦ ¦ ¦мощностью более 80 кВт и имеющее любую из ¦ ¦ ¦ ¦следующих составляющих: ¦ ¦ ¦ ¦а) лазерную систему управления уровнем ¦ ¦ ¦ ¦жидкой ванны, которая точно регулирует ¦ ¦ ¦ ¦скорость подачи заготовок; или ¦ ¦ ¦ ¦б) управляемое компьютером контрольно- ¦ ¦ ¦ ¦измерительное устройство, работающее на ¦ ¦ ¦ ¦принципе фотолюминесценции ионизированных ¦ ¦ ¦ ¦атомов в потоке пара, необходимое для ¦ ¦ ¦ ¦управления скоростью осаждения покрытия, ¦ ¦ ¦ ¦содержащего два или более элемента ¦ ¦ +------------+--------------------------------------------+---------------+ ¦ 2.2.5.4 ¦Производственное оборудование плазменного ¦8419 89 300 0; ¦ ¦ ¦напыления, обладающее любой из следующих ¦8419 89 98 ¦ ¦ ¦характеристик: ¦ ¦ ¦ ¦а) работающее при пониженном давлении ¦ ¦ ¦ ¦контролируемой атмосферы (равном или ниже 10¦ ¦ ¦ ¦кПа, измеряемом на расстоянии до 300 мм над ¦ ¦  |  |
|
|
|